课题组发明的薄膜断层光谱分析法正式获得专利授权


2018-11-01

近日,课题组2016年申请的发明专利正式获得国家知识产权局授权(鲁广昊;鲁万龙;卜腊菊,一种利用等离子体刻蚀原位测量聚合物亚层光谱的方法。申请号:201610393452X),该技术可用于测试有机聚合物薄膜沿着膜厚方向上的吸收光谱分布。薄膜吸收光谱是常规分析方法,适用于均匀薄膜。我们发明的方法可用于研究不均匀薄膜的吸收光谱的(垂直方向)空间分布特性。光学吸收和分子构象、结晶度、组分分布、材料电子能级、材料光学特性等参数紧密有关,因此断层吸收光谱可用于解析薄膜性质的空间分布规律。



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