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断层光谱分析方法获得国家专利授权
发布者: 鲁广昊 | 2020-10-16 | 12518

近日，课题组发明的断层光谱分析方法获得国家专利授权。专利号：201610393452X。截止到目前，该方法和自主研发配套仪器的数据用户（包括国内外有机半导体企业和科研院所）已经超过50家；数据参与发表的SCI论文已经超过20篇。数据用户包括中科院、北京大学、山东大学、华中科技大学、武汉大学、中南大学、南开大学、华南理工大学等高校的科研团队。

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