近日，课题组2016年申请的发明专利正式获得国家知识产权局授权（鲁广昊；鲁万龙；卜腊菊，一种利用等离子体刻蚀原位测量聚合物亚层光谱的方法。申请号：201610393452X），该技术可用于测试有机聚合物薄膜沿着膜厚方向上的吸收光谱分布。薄膜吸收光谱是常规分析方法，适用于均匀薄膜。我们发明的方法可用于研究不均匀薄膜的吸收光谱的（垂直方向）空间分布特性。光学吸收和分子构象、结晶度、组分分布、材料电子能级、材料光学特性等参数紧密有关，因此断层吸收光谱可用于解析薄膜性质的空间分布规律。