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专利授权：一种超高真空进样与样品处理两用系统及处理方法
发布者: 潘毅 | 2021-01-20 | 744

该专利是本课题组在超高真空设备技术开发方面系列工作中的专利，主要贡献学生为吴迪和袁玺惠同学。

 

 

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