专利授权:一种超高真空进样与样品处理两用系统及处理方法 - Yi Pan - 潘 毅
专利授权:一种超高真空进样与样品处理两用系统及处理方法
该专利是本课题组在超高真空设备技术开发方面系列工作中的专利,主要贡献学生为吴迪和袁玺惠同学。
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