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当前位置: Yi Pan group >> News全真空装备2 - 专利授权:一种超高真空进样与样品处理两用系统及处理方法
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发布时间:2021-01-20
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文章标题:全真空装备2 - 专利授权:一种超高真空进样与样品处理两用系统及处理方法
内容:
该专利是本课题组在超高真空设备技术开发方面系列工作中的专利,主要贡献学生为吴迪同学。

全真空装备2 - 专利授权:一种超高真空进样与样品处理两用系统及处理方法
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文章标题:全真空装备2 - 专利授权:一种超高真空进样与样品处理两用系统及处理方法
内容:
该专利是本课题组在超高真空设备技术开发方面系列工作中的专利,主要贡献学生为吴迪同学。
