方向I: 物理气相沉积法制备多功能氧化物薄膜材料与性能的应用研究

多功能氧化物薄膜在光电子、能源转换、新一代显示技术和传感器等领域有着非常重要的应用前景。利用物理气相沉积技术研究功能氧化物薄膜的工艺与性能之间的相互关系，利用先进的结构、电输运、光学、化学键价结构和微观组织系统表征氧化物薄膜性能。研究氧化物薄膜在具有光电、磁电和压电等多耦合效应的功能器件中的应用。

方向II: 非晶氧化物半导体薄膜（InGaZnO)，由于具有独特的电子结构而拥有高于非晶硅一个数量级的载流子迁移率，同时能够在低温条件下进行大面积性能均匀的薄膜生长，主要应用于高性能的透明/柔性薄膜晶体管器件，成为新型柔性显示器和电子纸显示驱动的关键性器件。

1. InGaZnO薄膜的低温生长

2. 氢气对InGaZnO薄膜电输运性能影响，InGaZnO:H薄膜电输运性能表征

3. 基于InGaZnO薄膜晶体管制备与性能表征

方向III: 宽禁带半导体III-V族半导体薄膜在LED器件中的材料应用与工艺研究

1.垂直结构LED工艺优化

2.绿光LED器件材料开发与表征