近期，成永红教授课题组论文 “Thickness-tunable growth of ultra-large, continuous and high-dielectric h-BN thin films” 作为封面文章Cover Article在材料化学领域国际知名期刊Journal of Materials Chemistry C在线发表（SCI一区，影响因子IF：5.976 ）。

该论文是成永红教授课题组与澳洲国立大学Zongyou Yin博士的重要合作成果，通过优化研究不同厚度的二维氮化硼材料的合成技术，成功得到厚度可控的大面积连续均匀介质薄膜，为后续二维异质结以及二维器件的设计开发奠定了重要的基础。

该论文第一作者单位是西安交通大学电力设备电气绝缘国家重点实验室，合作单位为澳大利亚国立大学的Zongyou Yin博士课题组。论文作者为：Dujiao Zhang,  Feihong Wu,  Qi Ying,  Xinyu Gao,  Nan Li,  Kejing Wang, Zongyou Yin,  Yonghong Cheng  and  Guodong Meng 

该研究工作受到电力设备电气绝缘国家重点实验室、中国博士后科学基金、国家自然科学基金等的资助。

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