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当前位置: Yi Pan group >> News全真空装备10 - 专利授权:一种镂空掩模电极沉积样品架及方法
点击次数:
发布时间:2025-10-23
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文章标题:全真空装备10 - 专利授权:一种镂空掩模电极沉积样品架及方法
内容:

该工作主要完成人为赵延鲁,他目前为硕士生二年级。
全真空装备10 - 专利授权:一种镂空掩模电极沉积样品架及方法
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发布时间:2025-10-23
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文章标题:全真空装备10 - 专利授权:一种镂空掩模电极沉积样品架及方法
内容:

该工作主要完成人为赵延鲁,他目前为硕士生二年级。