News
当前位置: Yi Pan group >> News全真空装备9 - 专利授权:一种超高真空多源共沉积装置
点击次数:
发布时间:2025-10-23
发布时间:2025-10-23
文章标题:全真空装备9 - 专利授权:一种超高真空多源共沉积装置
内容:

该专利主要完成人为本组2024届毕业生张又麒和25届毕业生刘逸凡,两人均从事半导体芯片制造工艺研发工作。
全真空装备9 - 专利授权:一种超高真空多源共沉积装置
点击次数:
发布时间:2025-10-23
发布时间:2025-10-23
文章标题:全真空装备9 - 专利授权:一种超高真空多源共沉积装置
内容:

该专利主要完成人为本组2024届毕业生张又麒和25届毕业生刘逸凡,两人均从事半导体芯片制造工艺研发工作。