全真空装备7 - 专利授权：一种超高真空环境多功能样品台及样品原位图案化的方法
发布时间：2023-04-07
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- 2023-04-07
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- 全真空装备7 - 专利授权：一种超高真空环境多功能样品台及样品原位图案化的方法
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该专利主要完成人为已经在本组2021届毕业生吴迪博士，他目前从事半导体芯片制造工艺相关设备研发工作。
该专利主要完成人为已经在本组2021届毕业生吴迪博士，他目前从事半导体芯片制造工艺相关设备研发工作。