News
当前位置: Yi Pan group >> News全真空装备7 - 专利授权:一种超高真空环境多功能样品台及样品原位图案化的方法
点击次数:
发布时间:2023-04-07
发布时间:2023-04-07
文章标题:全真空装备7 - 专利授权:一种超高真空环境多功能样品台及样品原位图案化的方法
内容:

该专利主要完成人为已经在本组2021届毕业生吴迪博士,他目前从事半导体芯片制造工艺相关设备研发工作。
全真空装备7 - 专利授权:一种超高真空环境多功能样品台及样品原位图案化的方法
点击次数:
发布时间:2023-04-07
发布时间:2023-04-07
文章标题:全真空装备7 - 专利授权:一种超高真空环境多功能样品台及样品原位图案化的方法
内容:

该专利主要完成人为已经在本组2021届毕业生吴迪博士,他目前从事半导体芯片制造工艺相关设备研发工作。