“There's Plenty of Room at the Bottom. —— Richard Feynman”
先进光刻与新兴纳米器件实验室，ALiEN Lab（Advanced Lithography for Emerging Nanodevices Lab），依托双一流A+学科机械工程、精密微纳制造技术全国重点实验室平台，致力于开发先进纳米与光刻技术，近原子制造技术与装备，及其工程化应用探索，主要包括面向人工视觉的纳米光电子器件及其集成芯片（人工智能与光子芯片）、基于表面等离激元的生物传感芯片等。
实验室主要从事高分辨（亚10纳米尺度）先进纳米制造与光刻技术开发与应用，目前我们主要关注以下研究方向：
先进制造：纳米压印、激光直写及亚10纳米图案化技术等微纳制造工艺相关研究。
类脑芯片/人工视觉：基于忆阻器，晶体管及二极管等电子器件制造与集成芯片等。
微纳光学：间隙等离激元调控与光学生物传感芯片
人工智能+纳米光子学：基于光学超表面驱动的光计算与集成硬件系统。